超臨界細微粒子製備裝置

描述：CXG-2型超臨界細微粒子製備裝置該設備在RESS工藝基礎上，適當放寬超臨界環境的調整範圍，可滿足不同物料粒子的製備，結品虢上蓋設置三通道，可升級為SEDS工藝。

更新時間：2024-12-17

產品型號：CXG-2型

所在城市：南通市

廠商性質：生產廠家

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CXG-2型超臨(lin) 界細微粒子製備裝置

產(chan) 品介紹

該設備在RESS工藝基礎上，適當放寬超臨(lin) 界環境的調整範圍，可滿足不同物料粒子的製備，結品虢上蓋設置三通道，可升級為(wei) SEDS工藝。

主要性能指標

型號:CXG-2

工作壓力:≤33MPa
工作溫度:室溫~150°C
結晶釜:500ml 316材質

分離釜:200ml SUS304或316L

可配備噴咀:50um.100um.200um.250um.500um
CO2柱塞泵:8L/h ，40MPa雙桂塞變頻調速，泵頭帶冷卻
藥劑泵:0.01~9.99 ml/min，40MPa

製冷水浴:2500kcal/h溫控範圍:-5°℃-·5℃風冷
恒溫箱:室溫-150℃中空可視玻璃,油流靜音風機
co2儲(chu) 罐:2L/16 MPa

電源:AC380V 50Hz三相五線8kw

CXG-2型超臨(lin) 界細微粒子製備裝置

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