超臨界二氧化碳無損清洗裝置2

超臨(lin) 界二氧化碳無損清洗裝置2

 所屬分類: 超臨(lin) 界係列產(chan) 品
一、簡介： 
超臨(lin) 界萃取技術是現代化工分離技術的新學科，是目前上興(xing) 起的一種*的分離工藝。超臨(lin) 界萃取是指在一定的壓力、合適的溫度下，在萃取缸中，溶劑與(yu) 被萃取物充分接觸，溶質擴散到溶劑中，再在分離器中改變工作條件，使溶解物質析出，以達到分離的目的。
超臨(lin) 界萃取有如下特點：
1、 萃取溫度低，製品不會(hui) 被分解。
2、 對溫度和壓力的精確控製，可以實現有選擇的萃取。
3、 製品中無溶劑殘留。
4、 溶劑可以循環使用。
5、 無環境汙染。
超臨(lin) 界二氧化碳無損清洗裝置2技術以CO2 作為(wei) 溶媒，其優(you) 點：
1、 CO2 的超臨(lin) 界狀態容易實現。
2、 對食品和藥品無毒性汙染。
3、 有防止細菌活動的作用。
4、 不易燃燒，化學穩定性好。
5、 價(jia) 格低廉，經濟性好。
該超臨(lin) 界清洗裝置主要是應用超臨(lin) 界CO2萃取原理來實現對半導體(ti) 矽片的清洗。
裝置特點：
1、工藝方麵：
（1） 能滿足超臨(lin) 界二氧化碳（Tc≥31.06℃、Pc≥7.39MPa）的間歇式工作條件，二氧化碳可循環利用。
（2） 在清洗器前設計了混合器，可使CO2進入清洗器前充分的與(yu) 夾帶劑預混。
（3） 清洗器堵蓋上設計了一個(ge) 快開式觀察孔，可方便觀察。
（4） 清洗器後的管路上，通過一級、二級過濾分離裝置實現了氣、液、渣的分離，確保了係統管路暢通、不堵塞。
（5） 一級、二級分離裝置均設計有水夾套及外保溫裝置，采用兩(liang) 套恒溫水浴及低溫冷卻液來控製來控製一級、二級分離器的溫度，並確保了zui終出來的CO2成為(wei) 氣態被回收再利用。
（6） 清洗器設置了獨立的內(nei) 加熱裝置和低溫冷水循環係統，溫度在-15℃-200℃範圍內(nei) 可調。
2、控製係統方麵：
（1） 清洗器、一級分離裝置、二級分離裝置等關(guan) 鍵監測點的壓力、溫度設計了壓力傳(chuan) 感器和溫度探頭以及帶通訊口的數顯二次儀(yi) 表，可實現與(yu) 計算機聯網，由計算機實時監控並記錄。
（2） 二氧化碳泵及夾帶劑泵自帶流量顯示功能，可與(yu) 計算機聯網，及時采集和控製CO2和夾帶劑的流量，可實現計算機實時監控。
（4）在清洗器後設計了手動背壓閥，可精確控製清洗器的壓力。
3、安全保護方麵：
（1） 清洗器、一、二級分離器上均設計了安全閥。
（2） 二氧化碳的排氣設計了匯氣排，可統一排放到外界控製去，靜化了室內(nei) 空氣，又減少了室內(nei) 放氣的噪音。
二、主要技術參數： 
1、 裝置zui大工作壓力： 15Mpa；
2、 裝置工作溫度範圍：-15—200℃
3、 CO2泵zui大流量：60mL/min，zui大壓力15Mpa
4、 夾帶劑泵zui大流量：20mL/min，zui大壓力15Mpa
5、 5、視窗窗口：φ30mm。
6、 6、壓力測試量程16MPa、壓力傳(chuan) 感器精度0.25級；
7、 9、設備及控製係統均需可靠接地，接地電阻小於(yu) 4歐姆。
8、 10、總功率：10KW